晶粒的表面處理工藝,真空等離子清洗機(jī)可以做什么?
文章導(dǎo)讀:晶粒是晶圓切割后的產(chǎn)物,將整塊的晶圓按芯片大小分割成單一的芯片(晶粒);隨著現(xiàn)代工藝的進(jìn)步,對(duì)晶粒尺寸要求越來(lái)越高,12英寸、8英寸、6英寸等,這對(duì)生產(chǎn)要求非常高,而真空等離子清洗機(jī)在晶圓生產(chǎn)的表面處理中起非常重要的作用。
晶粒是晶圓切割后的產(chǎn)物,將整塊的晶圓按芯片大小分割成單一的芯片(晶粒);隨著現(xiàn)代工藝的進(jìn)步,對(duì)晶粒尺寸要求越來(lái)越高,12英寸、8英寸、6英寸等,這對(duì)生產(chǎn)要求非常高,而真空等離子清洗機(jī)在晶圓生產(chǎn)的表面處理中起非常重要的作用。
1、晶圓與晶粒關(guān)系
晶圓是指制作硅半導(dǎo)體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經(jīng)過(guò)研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。國(guó)內(nèi)晶圓生產(chǎn)線以 8英寸和 12 英寸為主。
晶圓切割(即劃片)是芯片制造工藝流程中一道不可或缺的工序,在晶圓制造中屬于后道工序。晶圓切割就是將做好芯片的整片晶圓按芯片大小分割成單一的芯片(晶粒)。
2、真空等離子清洗機(jī)在晶粒制造中的作用
晶園加工時(shí),需要在無(wú)塵室進(jìn)行制作,空氣中顆粒對(duì)晶圓加工后質(zhì)量以及可靠性有影響,所以在處理前可以通過(guò)真空等離子清洗機(jī)處理表面去除粉塵、有機(jī)物、顆粒物得到超潔凈的表面,在后續(xù)的切割以及加工中,真空等離子清洗機(jī)也能提供表面處理服務(wù),讓晶粒表面擁有極高的平整度、光滑度和潔凈度。
3、真空等離子清洗機(jī)在晶粒制造中優(yōu)勢(shì)
3-1 表面處理效果只發(fā)生在物體的表面幾到幾十個(gè)納米,清潔活化表面的同時(shí)不會(huì)造成影響產(chǎn)品質(zhì)量
3-2 表面處理的效果可控性強(qiáng),參數(shù)調(diào)整好后處理效果非常穩(wěn)定,設(shè)備操作簡(jiǎn)單,可以有效提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率以及良品率
3-3 經(jīng)過(guò)處理的表面會(huì)生成活性基團(tuán),在去除有機(jī)物的同時(shí)提高表面能,有利于后續(xù)黏晶、焊線、封膠等工藝。
目前半導(dǎo)體行業(yè)中等離子表面處理工藝應(yīng)用廣泛,很多企業(yè)選擇真空等離子清洗機(jī)替換原本的處理工藝,這樣干式的處理方式,不僅節(jié)能環(huán)保,而且不會(huì)產(chǎn)生廢水污染。如果有需求歡迎聯(lián)系咨詢(xún)。
昆山普樂(lè)斯電子13年專(zhuān)注研制等離子清洗機(jī),等真空離子清洗機(jī),等離子表面處理設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,大氣低溫等離子表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面 設(shè)備處理的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),普樂(lè)斯嚴(yán)格執(zhí)行ISO9001質(zhì)量體系管理,生產(chǎn)的等離子清洗機(jī)通過(guò)歐盟CE認(rèn)證,為電子、半導(dǎo)體封裝、汽車(chē)、yi療等領(lǐng)域的客戶(hù)提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內(nèi)值得信賴(lài)的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中存在疑問(wèn),歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢(xún),或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一 服務(wù)熱線400-816-9009,普樂(lè)斯隨時(shí)恭候您的來(lái)電!

晶圓是指制作硅半導(dǎo)體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經(jīng)過(guò)研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。國(guó)內(nèi)晶圓生產(chǎn)線以 8英寸和 12 英寸為主。
晶圓切割(即劃片)是芯片制造工藝流程中一道不可或缺的工序,在晶圓制造中屬于后道工序。晶圓切割就是將做好芯片的整片晶圓按芯片大小分割成單一的芯片(晶粒)。

晶園加工時(shí),需要在無(wú)塵室進(jìn)行制作,空氣中顆粒對(duì)晶圓加工后質(zhì)量以及可靠性有影響,所以在處理前可以通過(guò)真空等離子清洗機(jī)處理表面去除粉塵、有機(jī)物、顆粒物得到超潔凈的表面,在后續(xù)的切割以及加工中,真空等離子清洗機(jī)也能提供表面處理服務(wù),讓晶粒表面擁有極高的平整度、光滑度和潔凈度。
3、真空等離子清洗機(jī)在晶粒制造中優(yōu)勢(shì)
3-1 表面處理效果只發(fā)生在物體的表面幾到幾十個(gè)納米,清潔活化表面的同時(shí)不會(huì)造成影響產(chǎn)品質(zhì)量
3-2 表面處理的效果可控性強(qiáng),參數(shù)調(diào)整好后處理效果非常穩(wěn)定,設(shè)備操作簡(jiǎn)單,可以有效提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率以及良品率
3-3 經(jīng)過(guò)處理的表面會(huì)生成活性基團(tuán),在去除有機(jī)物的同時(shí)提高表面能,有利于后續(xù)黏晶、焊線、封膠等工藝。

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