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普樂(lè)斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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2021年中國(guó)半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)與市場(chǎng)年會(huì)(第十九屆)第四輪通知

返回列表 來(lái)源:微電子制造 瀏覽: 發(fā)布日期:2022-01-06 13:20【
文章導(dǎo)讀:經(jīng)組委會(huì)傾力協(xié)調(diào),“2021年中國(guó)半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)與市場(chǎng)年會(huì)(第十九屆)”將定于2022年3月14日至3月16日(14日?qǐng)?bào)到)舉辦。會(huì)議地點(diǎn)、內(nèi)容均不變,已經(jīng)注冊(cè)及預(yù)訂會(huì)議酒店房間的參會(huì)代表,名額及房間仍保留有效。
2021年中國(guó)半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)與市場(chǎng)年會(huì)(第十九屆)”將于2022年3月14-16日(14日?qǐng)?bào)到)舉辦,相關(guān)事宜通知如下:
一、會(huì)議時(shí)間
222年3月15日(周二)至3月16日(周三),會(huì)期2天,3月14日(周一)報(bào)到(報(bào)到地點(diǎn):馬兒島酒店一樓大堂
二、會(huì)議地點(diǎn)
江蘇省江陰市海瀾飛馬水城(江陰斷橋鎮(zhèn)南環(huán)路8882號(hào))
三、會(huì)議主題
創(chuàng)新引領(lǐng)、協(xié)作共贏、共建芯片成品制造產(chǎn)業(yè)鏈
四、會(huì)議內(nèi)容
(一)2022年3月15日高峰論壇:
1.領(lǐng)導(dǎo)講話邀請(qǐng)政府相關(guān)領(lǐng)導(dǎo),行業(yè)專家進(jìn)行政策解讀
2.專家演講:國(guó)內(nèi)外封測(cè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)與展望
3.企業(yè)告:設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)設(shè)備及材料技術(shù)等
(二)2022年3月16日中國(guó)半導(dǎo)體封測(cè)年會(huì)專題研討:
1.先進(jìn)封測(cè)與芯片成品制造的創(chuàng)新與趨勢(shì)
2.半導(dǎo)體后道成品制造裝備的創(chuàng)新和機(jī)遇
3.后摩爾時(shí)代的先進(jìn)封裝材料的創(chuàng)與合作
4.車載芯片成品制造與測(cè)試技術(shù);
5.無(wú)錫江陰集成電路產(chǎn)業(yè)的協(xié)作與發(fā)展
6.企業(yè)專場(chǎng)。
(三)產(chǎn)品現(xiàn)場(chǎng)展覽展示(馬兒島酒店一層馬廳):大會(huì)將為半導(dǎo)體封裝測(cè)試設(shè)備、材料、組件、軟件供應(yīng)商、制造商及服務(wù)商等企業(yè)提供市場(chǎng)推廣平臺(tái)。
議程下載鏈接 :  http: //cepen. con. cn/files/cspt202lagenda. pdf
五、防疫要求:
1.行程卡須綠碼,14天內(nèi)無(wú)國(guó)內(nèi)中高風(fēng)險(xiǎn)地區(qū)旅居史,非中高風(fēng)險(xiǎn)地區(qū)所在設(shè)區(qū)市(直轄市為區(qū))低風(fēng)險(xiǎn)地區(qū)人員行程碼帶*須提供48小時(shí)內(nèi)核酸檢測(cè)陰性報(bào)告:中高風(fēng)險(xiǎn)地區(qū)所在設(shè)區(qū)市(直轄市為區(qū))低風(fēng)險(xiǎn)地區(qū)人員不能參會(huì)
2.健康碼綠碼:
3.體溫檢測(cè)正常(37.3以下)
4、參會(huì)人員需簽暑健康承諾書(shū)。
半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)市場(chǎng)年會(huì)
半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)市場(chǎng)年會(huì)

 
半導(dǎo)體封裝測(cè)試技術(shù)市場(chǎng)年會(huì)
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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級(jí)孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無(wú)需使用化學(xué)溶劑,減少?gòu)U水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過(guò)調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過(guò)程‌。


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    ‌雙腔體等離子處理機(jī)主要用于晶圓表面等離子處理‌是一種通過(guò)等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行改性的技術(shù),具有高效、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。

     
     

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